22nm芯片一年内将普及，22nm芯片什么水平

大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于22nm芯片一年内将普及的问题，于是小编就整理了2个相关介绍22nm芯片一年内将普及的解答，让我们一起看看吧。

中国研制出世界上首台用紫外光源实现了22纳米分辨率的光刻机，在世界上属于什么水平？

你好，目前这台光刻机能生产最高制程的芯片是10nm，而国外商用的最新技术是能生产7nm的；另外，国产光刻机只能蚀刻4寸的晶圆。荷兰ASML的光刻机由于光源好，生产的晶圆尺寸能达到12寸，大的晶圆尺寸有利于批量生产降低单位成本。总的来说，这台国产光刻机和国外最新的技术还有差距，但是也已经很先进了，排进全球前五没问题。至于赶超，就只能寄希望于天才科学家的出现了，我们在研发新技术，别人也在研发，不是那么容易的。目前荷兰在这个领域有绝对的技术优势，美国日本尚且不能和他抗衡，何况我们。但是也不用灰心，就像坦克发动机一样，国产坦克发动机虽然落后德国MTU 30年，但已经是世界第二的水平了。

什么水平？这是世界上首台用紫外线光源实现22纳米分辨率的光刻机，地位已经不能动摇了。

光刻机说白了就相当于是一个投影仪，只不过在这里光就是一把雕刻刀，将内容雕刻在要呈现的地方。这样的话如果太宽基本上就废了，但是太细又做不出来。

从这样的角度来看，这样的技术真的可以说是领先世界了，毕竟现在世界上也仅仅只有三星，英特尔还有台积电能做出。而我们仅仅用了七年的时间就完成了这样的壮举，实力不言而喻。

另一方面，光刻机的用处十分广泛，用紫外线光源做的光刻机，从资本角度来说会比世界上很多知名的光刻机技术要便宜。用起来成本更低，效果更好。

魂舞大漠注意到了11月29日的消息，一内行有这样的评述，实事上，又一颗大白菜又被兔子给拱了。呵呵，我们高兴。有一门外汉却说了，这个只是实验品，用于芯片厂的我们有吗？还没有高精度镜头，也没有高精度对准技术，精度只是阿斯麦的十万分之一，可是我们看到，中芯国际订购的7纳米级EUV明年就到货了呢，噫，向来依据“瓦纳森协定”，这种光刻机可是对我严格禁止出口的，这又是怎么回事？美国挥动制裁大棒，制裁中兴，不过眼巴前发生的事呀，让我们通过实事，来戳穿一些谎言，一观实事真相如何？先来理清这位门外汉的迷雾，他说的这些，对我们来说都有了，技术上在国际上领了先，且领先不是一星半点，只是他根本不懂，人云亦云罢了。仅光电所在国际上申请的专利就有4项，其它4项已被人申请。通过研发，所可喜的是，人才队伍已是兵强马壮，技术上拨开了迷雾，已来到了一个大的突破期。光电所的精英们说了，可以保证，下一步就是弯道超车的问题。好了，下面就让我们来做番梳理。

▲名字之下。藏多少猫腻，英文不好，不关注科技者，不知ASML在我们这就叫阿斯麦，而艾司摩尔正是台湾的叫法，其台积电占有5%的股权。韩国三星3%，英特尔有15%，荷兰这家公司，不过，大国协作的产物，什么美国的光源，德国蔡司镜头等等，他们都是该公司的股东，因此成就了ASML的名头。由于很多技术突破了物理的极限，使用的名词，不为寻常百姓所熟知，突破了极限，要的是精度，芯片体积才可以造的越来越小呀。中国每突破一极限，美国为代表的西方国家，即开始对中国出口相关产品，成为规律，谁不挣钱都着急，2015年刚说要将65纳的设备给我们，今年阿斯麦就宣布，7纳的光刻机对中国一视同仁，嘻嘻，谢谢您的仁慈，谁都能听出来，中国没有的话，实事上根本不可能，不少喷子纳闷极了，我们的进步，有这么快？是的，由不得你眨下眼睛。国际上现在最先进的芯片也就是这个水平了，中兴还是回国创业吧。

▲新闻背后。光刻机是集成电路产业的一颗最璀璨的明珠，闪烁着高难问的光辉，如同航空产业的发动机一样，由于技术门槛非常之高，一般人拱不动的，日本由于收购德国亚深，掌握了深紫外光源技术和物镜技术，其尼康和佳能也能做22纳的水平，这些年还是发了些财的，所以每谈及日本芯片，总有人投去羡慕的目光。我们收不动，大约也只能自家研发，透过新闻报道，我们可以看到，我们走了一条不同的路，取得了更高的精度，有称世界首台用紫外光源实现22纳的EUV，采取多次曝光技术可以实现10纳，我们不吹，10纳以下是一个级别，所以7纳亦可有望实现之。至少打破了禁运规则，他们再想赚钱，不得不重新审定，只是手里还有吗？由此看来，人家比咱们有些人要明白，能赚则赚，这回中国先，要来几台？所以新闻说，可以达到一致的水平。年初要制裁，年底被打脸，这一掌掴出了深紫之血。

▲中国光刻。我们使用的光源，为固态深紫外，不同于阿斯麦的离子束，我们的优点比较细，可使设备小巧得多，成本还低。二看物镜的镜片，荷兰使用的是磁流变和离子束，辅之以手工，加工慢，人工成本自然就高，我们则实现了全自动。此二者都是日本根本不可能完成的。以现在的技术，产业以后，以其寿命长，产率高，可以白菜价占领14纳的市场。致于极紫外的，现在都在努力，据说0.1纳的镜片，我们已攻克，上面镀的一层原子膜，中国说是第二，无人敢讲第一。据悉日本不敌已败走，阿斯麦为此正在吭哧憋肚。年初中芯花钱买来的7纳EUV，每台1.2亿美刀，我们的量产后，不过千万级。请记住，2018年11月29日，这一天是有重大意义的，魂舞大漠去各大网站走了一遭，看到网友们无不为咱们取得的成就欢欣鼓舞。

理论上讲，中国的的光刻机成熟了要比进口的更先进，即便是目前还不成熟也能进入世界高端了，排在前几名没问题。

这个光刻机，另辟蹊径很好的解决了光刻机衍射斑点问题。相对于其它公司可以用更大的波长，获得更小的衍射光斑。可以用近紫外光365的波长，达到其它公司深紫外光极，限到一百多纳米波长才能产生的效果。目前可以做到衍射在22纳米内不受影响，可以做到切割10纳米以下的线宽。也就是可以完成芯片10纳米的工艺.如果工艺再加完善，经验在丰富些。如果不考虑成本，用到国外的极限紫外光的超短波长，一定衍射更小距离，取得更极限光刻工艺……@力通科技一点通 @新华网 @今日头条 @中国网直播 @游画 @农民小姚 @制造原理 @电气知识

90nm光刻机能做什么样的手机？

要看是90纳米制程还是90纳米的光刻机。90纳米制程和现在主流7纳米相差太大不适合做手机芯片，因为手机芯片追求体积小巧和低功耗。如果是90纳米光刻机并不是做出来的芯片就是90纳米，可以曝光3次达到14纳米级别。但是7纳米以下基本就是euv能做，asml最先进的机器是13.5纳米，并不是波长5纳米7纳米

估计不会只做2G手机和大哥大！我虽外行不懂技术，可以想象一，1纳米是比一根头发小20000倍90纳米有多大？可能功能上不如7/9纳米，现在的手机某些功能对多数人没多大用或者根本用不上。因为竞争状态下厂家以功能争销量！所以说断供芯片不是手机一下回到2G或大哥大年代！压力变动力相信中国人定能解决这个难题！唯有如此！屈服只会换来更大的耻辱！

90纳米制程工艺的芯片到底有多大，能做什么样的手机？

想想，台积电在大概在2004年，2005年的时候它的90纳米制程工艺技术才完全成熟起来，其实上述这个标题表述不准确，不是90纳米的光刻机，应该说90纳米制程工艺，纳米就是比头发丝还小的概念，90纳米并不是说的芯片整体外观大小，而说的是在芯片上光刻布置的元器件的间距。在芯片上光刻元器件，电路就跟拿着图纸在地基上建设许多房子与基础设施一样，建成后形成一个强大的整体处理功能区，这就是芯片。

其实90纳米制程工艺的芯片整体外观大小与现在7纳米，14纳米制程工艺芯片整体外观差不多一样的，只是芯片上面布置的元器件多少的问题，比如90纳米制程工艺芯片上可以光刻上10亿个元器件，那么7纳米制程工艺的芯片就可能布置上50亿个元器件，很简单的问题，那么肯定的是7纳米制程工艺的芯片功能要强大的多，因为7纳米制程工艺的芯片上元器件要多得多，设计更完善，更合理，功能越强大。

那么有90纳米制程工艺技术的光核机能做啥样的手机？不要小看90纳米制程工艺的芯片在大概2004年时候才成熟，那时候用90纳米制程工艺做的芯片在很多大牌手机上用过，80后的大哥肯定用过这样的手机，比如德州仪器的90纳米制程工艺的OMAP 1710CPU，那时候这个处理器就搭载在诺基亚一系列型号手机上，像N90，N80，E70，E60，主要诺基亚的N系列与E系列产品上，用过诺基亚手机都知道手机本身整体也不大，因此90纳米制程工艺与7纳米制程工艺做出来的芯片并不是说外观上有大小的关系，主要是功能上大小的关系。

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